發往江西德興XX半導體有限公司20t/h半導體超純水設備及含氟酸堿廢水處理設備：

本項目半導體超純水設備產水流量20t/h，電阻率18兆歐以上，達到電子級水一級標準。

**我們來聊聊超純水和廢水有哪些技術要求

1、業主對純水技術參數要求：

（1）超純水供水量：20t/h；二級RO出水量：5T/h；

（2）電阻率：≥18.1MΩcm（@25℃）；二級RO出水電導率：<3μS/cm（@25℃）

（3）總溶解有機碳TOC：<50ppb；

（4）顆粒度：< 5個/ml(φ>0.2u)；

（5）SiO2含量：<5ppb；

（6）溫度：22~27℃；

（7）細菌含量：<50個/100ml；

（8）壓力：0.3Mpa 

2、廢水技術參數要求：

（1）酸堿綜合廢水：包含工藝廢水、公輔廢水、初期雨水等，設計總水量 40m3/h，其中含氟廢水水量為8m3/h，研磨廢水水量為8m3/h。

（2）控制標準(按 24h/d 連續運行計算)：PH＜9，氟離子＜20mg/L，COD＜500mg/L，氨氮＜50mg/L，并滿足《污水綜合排放標準》GB8978-1996三級標準；

（3）設備配套：改造原有廢水站，廢水系統應滿足招標文件、圖紙設計全部內容及有關施工驗收規范的要求，管道系統采用UPVC（含閥門管件）

■半導體行業：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封測用水、半導體設備清洗、電子級無塵布無塵服清洗。

■太陽能光伏行業：單晶硅、多晶硅切片清洗、太陽能電池、石英坩堝、多晶硅方舟、光伏玻璃、高純硅粉

■LCD、LED、OLED生產清洗用水，光學攝像頭清洗，光學材料清洗，導電玻璃清洗；

■半導體集成電路板，線路板生產清洗用超純水；

■鋰電池材料（磷酸鐵鋰、三元材料、鋰電池隔膜）、蓄電池、鋅錳電池生產用水

■電子級超純化學試劑用純水，納米級電子陶瓷材料純水、**磁性材料用純水、有色金屬、貴金屬冶煉用水、航空新材料生產用水、電容器材料腐蝕化成工藝用水。

     以上是創聯凈化小李對高純水設備及廢水設備的幾點簡單介紹，如果需要更詳細的方案或設備報價，歡迎來咨詢我們呀。